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納米二氧化硅磨料拋光液由高純納米二氧化硅等多種復合材料配置而成，通過高科技術分散成納米顆粒，分散均勻的納米拋光液，具有高(gao)強度、高(gao)附著力(li)、成(cheng)膜性(xing)好、高(gao)滲(shen)透、高(gao)耐候性(xing)、高(gao)耐磨(mo)性(xing)等特點(dian)，是一種性(xing)能(neng)優良的CM P技(ji)術用的拋光材料.
技術指標：
納米級二脫色硅拋光劑液 VK-SP30W 暗紅色精華液 30nm 20%量 水 納米二氧化的硅打蠟 液 VK-SP50W 小白保濕乳 50nm 20%量 水 微米二氧化的硅磨光液 VK-SP100W 粉色面霜 100nm 20%濃度 水納米二氧化磨料拋光液應用特性：
1、拋速度溝壑度加工生產，本品拋只是通過SiO2等文件的平滑分布微米微粒，都不會對加工生產件從而造成物理學影響，率快，通過消減平滑分布大粒級的氫防氧化鐵二防氧化硅等微粒提升高速度增加光澤的意義 2、高飽和度，拋光處理液不浸蝕主設備，適用的防護機械性能高。 3、高符合高平滑化加工工藝 4、合理合理抑制磨光后的面刮損，減輕磨光后的面凹凸不平度。應用范圍：
1、可用于微(wei)晶玻璃的表(biao)面拋(pao)光加工(gong)中。
2、用作硅片的粗拋和精拋和IC粗加工處理環節，不適用作大總量集成化電路板雙層以上化塑料膜的溝壑化粗加工處理。 3、使用在晶圓的后道ＣＭＰ擦洗等半導體材料元器件封裝的代工作全操作過程、平面設計現示器、多晶化模組、微高壓電機軟件系統、光導拍照管等的代工作全操作過程。4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。
5、本(ben)產品可(ke)以(yi)作為一種添(tian)加劑(ji)，也可(ke)應用(yong)于水(shui)性(xing)高(gao)(gao)耐候(hou)石材(cai)保(bao)護(hu)液(ye)、水(shui)性(xing)膠粘劑(ji)與高(gao)(gao)耐候(hou)外墻(qiang)涂料等領域。
納米二氧化硅磨料拋光液使用注意事項：
1、 本品搭建時長長后，若有少量出積累類屬正常的狀況，用立式攪拌器機機立式攪拌器機粗糙不引響操作。 2、 假如有企業產品變稠情況，是二氧化的硅實際上的的特點，都可以明確與水1:1的比倒溶解稀釋，攪伴平均后再運用。 3、 密閉式，干熱陰暗處處會自動儲存，減少太陽星直接照射。包 裝：25kg/桶
